言“硅”正传

半导体制造过程中产生的工业废水中含有多种污染物，其中硅是一种常见的成分。

这些含硅废水主要来自多晶硅加工、硅片切割、硅胶生产及催化剂的使用等多个环节。

处理含硅废水的主要难题在于如何有效去除废水中那些溶于水中的硅。

传统处理方法:

传统的废水处理手段，比如使用PAC或PAM进行混凝絮凝，虽然能去除不溶于水的大颗粒硅，

但对于那些在溶液中可溶解的硅却显得无能为力。

为解决这一难题，我们提供了一种新型污水处理剂——Eugene KH-828。

这种高效药剂能够处理多种形态的硅及其化合物，使难以沉淀的硅以简单方式沉淀下来，从而确保废水处理后的硅含量达到排放标准。

让我们来看一个成功案例：

某家半导体公司长期面临含硅废水处理的问题，传统方法始终无法将硅含量稳定控制在5ppm以下。

直到尝试了Eugene KH-828，通过精准的化学反应与絮凝工艺相结合，硅含量从原先的45ppm骤降至令人惊喜的3.6ppm，远远低于排放标准。

Eugene KH-828（液态）是对原先除硅产品的再升级，我司不断研发、改良各类污水处理药剂，力求满足客户多样化的需求，为客户解决各自废水处理难题。

另还有Eugene NH-324（固态）除硅剂可满足客户不同需求，欢迎来电咨询！